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3D打印巨頭德國EOS公司全球?qū)@麘?zhàn)略

3D打印動(dòng)態(tài)
2014
05/13
23:45
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評(píng)論
一、EOS公司全球?qū)@暾?qǐng)趨勢(shì)分析

  德國EOS公司(Electro Optical System)是世界著名的快速成型設(shè)備制造商和E制造方案提供商,其設(shè)備主要涉及3D打印的光固化工藝和選區(qū)激光燒結(jié)(SlS)工藝,主要快速成型產(chǎn)品有Formigap系列、Eosintp系列、Eosint s系列和Eosrntm系列等,其服務(wù)的產(chǎn)品涵蓋了汽車、飛機(jī)、發(fā)動(dòng)機(jī)、醫(yī)療、民用、機(jī)電設(shè)備、工業(yè)工具等領(lǐng)域。作為3D打印產(chǎn)業(yè)的三大龍頭企業(yè)之一,EOS公司在產(chǎn)業(yè)分布和銷售網(wǎng)絡(luò)、核心技術(shù)、專利布局戰(zhàn)略等方面具有很多值得我國企業(yè)學(xué)習(xí)的地方,因此,對(duì)其進(jìn)行專利分析很有必要。本文的專利檢索數(shù)據(jù)截至2013年5月31日。
  圖1顯示了eos公司的專利申請(qǐng)量隨年度的變化趨勢(shì)。圖2顯示了eos公司的專利申請(qǐng)數(shù)量及對(duì)應(yīng)授權(quán)量,圖中黑色部分與當(dāng)年申請(qǐng)量的授權(quán)量相對(duì)應(yīng)(同族申請(qǐng)中有1件獲得授權(quán)即統(tǒng)計(jì)在內(nèi))。在不同的國家申請(qǐng)、不同的審查制度、不同的時(shí)期、申請(qǐng)人的不同申請(qǐng)策略都會(huì)影響授權(quán)率。  



  EOS公司的專利申請(qǐng)呈現(xiàn)出明顯的3個(gè)階段,且在第一和第三階段呈簇狀發(fā)展。
  
  1.第一階段:強(qiáng)勢(shì)進(jìn)駐期(1991 - 1996年)
  1991 - 1996年是EOS公司專利申請(qǐng)量分布的第一簇狀時(shí)期,其間共有41件專利申請(qǐng)(同族申請(qǐng)視為1件專利申請(qǐng))。
  1991年,EOS公司開始了在快速成型領(lǐng)域的專利布局,其專利申請(qǐng)既包括激光燒結(jié)方面的專利申請(qǐng),也包括光固化快速成型方面的專利申請(qǐng)。EOS公司的創(chuàng)始人漢斯·朗格博士認(rèn)識(shí)到首先進(jìn)行工藝方面的專利布局的重要性,其最早提出的3件專利申請(qǐng)均涉及塑料材料的工藝。
  在其第一階段的專利布局中,EOS公司的專利申請(qǐng)主要涉及激光燒結(jié)的工藝方法和激光燒結(jié)裝置,另外還涉及材料(2件)、粉末輸送裝置(de19530295ci)、粉末涂覆裝置和激光裝置等。可見,EOS公司在早期就基本完成了在激光燒結(jié)各方面的全方位專利布局。其第一階段的專利授權(quán)率基本在50%以內(nèi),說明在這一階段,EOS公司的專利申請(qǐng)授權(quán)比在1/2以下。

  2.第二階段:平緩積累期(1997 - 2003年)
  1997 - 2003年是EOS公司專利申請(qǐng)量較少的時(shí)期,7年間一共申請(qǐng)了18件專利,平均每年只有2.6件,這與EOS公司在這一階段更為重視產(chǎn)品推廣的運(yùn)營策略有關(guān)。EOS公司在這一階段的專利申請(qǐng)量雖然不大,但都是在其原來專利布局的基礎(chǔ)上進(jìn)行的,完善了針對(duì)金屬激光燒結(jié)的Eosintp系統(tǒng)設(shè)備,開發(fā)了材料管理系統(tǒng)Ipcms、針對(duì)金屬激光燒結(jié)的Eosintm系統(tǒng)設(shè)備、針對(duì)砂型激光燒結(jié)的Eosints系統(tǒng)設(shè)備。

  3.第三階段:集中爆發(fā)期(2004 - 2013年)
  2004年至今是EOS公司專利申請(qǐng)的第二簇狀時(shí)期,其間年均申請(qǐng)專利10件。由于專利申請(qǐng)公開有一定的滯后期,該公司2012 - 2013年的專利申請(qǐng)暫時(shí)不能查到。這一時(shí)期EOS公司的專利申請(qǐng)涉及激光燒結(jié)方法,激光燒結(jié)裝置、材料、輔助設(shè)備的比例基本上能夠保證均衡發(fā)展,可見,隨著研發(fā)技術(shù)的積累和研發(fā)團(tuán)隊(duì)構(gòu)架的日趨合理,EOS公司在激光燒結(jié)各個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)日趨完善,專利技術(shù)布局日趨完整,專利投入產(chǎn)出比也處于較高的水平。2004 - 2009年,其專利申請(qǐng)的授權(quán)率基本能達(dá)審查階段)。

二、EOS公司專利布局策略分析

  合理的專利布局可以提高企業(yè)的專利價(jià)值,提升企業(yè)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力,最大限度地發(fā)揮專利武器在企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)中的作用。企業(yè)的專利布局必須服從企業(yè)專利戰(zhàn)略,并服務(wù)于企業(yè)整體的競(jìng)爭(zhēng)發(fā)展戰(zhàn)略。
  
  1.主要申請(qǐng)模式
  EOS公司在專利申請(qǐng)模式上采取多邊申請(qǐng)和單邊申請(qǐng)相結(jié)合的方式。其專利申請(qǐng)主要通過以下4個(gè)途徑提出:①直接向該國專利局提出申請(qǐng);②通過pct進(jìn)入該國國家階段;③通過EPO(歐洲專利局)進(jìn)行申請(qǐng);④通過pct向epo進(jìn)行申請(qǐng)。其中②③④項(xiàng)均屬于多邊專利申請(qǐng)的情況。EOS公司的多邊申請(qǐng)數(shù)量達(dá)到121件,單邊申請(qǐng)有25件(多數(shù)集中在德國,只有2件在美國的單邊申請(qǐng)),其公開頻次達(dá)到599次,即有599件專利申請(qǐng)?jiān)诓煌膰一虻貐^(qū)進(jìn)行了專利布局,平均單件專利申請(qǐng)的布局頻次接近5次。EOS公司具有78件pct申請(qǐng),其中69件進(jìn)入了EOS,此外還單獨(dú)針對(duì)EOS有29件專利申請(qǐng)。

  2.合作申請(qǐng)
  合作研發(fā)是指企業(yè)針對(duì)自己研發(fā)實(shí)力較弱的領(lǐng)域或創(chuàng)新領(lǐng)域,借用人才、設(shè)備、資金等外力進(jìn)行合作開發(fā),在較短時(shí)間內(nèi)解決技術(shù)難題,完成高水平的研發(fā)成果。專利合作申請(qǐng)是合作研發(fā)的一種主要體現(xiàn)形式。EOS公司的專利申請(qǐng)逐步出現(xiàn)了向多個(gè)申請(qǐng)主體、多個(gè)權(quán)利要求人轉(zhuǎn)變的局面,其有合作專利申請(qǐng)23件,合作方包括上游企業(yè)、下游企業(yè)、同行企業(yè)、研究機(jī)構(gòu)和個(gè)人。

  (1)與下游企業(yè)的合作申請(qǐng)
  與eos公司合作申請(qǐng)的下游企業(yè)涉及汽車、機(jī)電、醫(yī)療等領(lǐng)域,具體有豐田賽車有限公司(tmg)、戴姆勒汽車有限公司(daimler ag)、heuge數(shù)控機(jī)床有限公司、西門子能源有限公司。

  (2)與上游企業(yè)的合作申請(qǐng)
  eos公司關(guān)于激光燒結(jié)輔助設(shè)備和燒結(jié)材料的技術(shù)并不處于領(lǐng)先地位,因此它非常重視與上游企業(yè)的合作專利申請(qǐng)。通過與上游企業(yè)的合作申請(qǐng),eos公司能夠開發(fā)針對(duì)自身特點(diǎn)的產(chǎn)品,進(jìn)而通過這些特定的產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)利益的最大化。eos公司的供應(yīng)商主要分為材料供應(yīng)商和激光燒結(jié)輔助設(shè)備供應(yīng)商。micromac公司是eos公司在激光器方面的供應(yīng)商,二者的合作申請(qǐng)是申請(qǐng)?zhí)枮閣02008ep03622的pct申請(qǐng),具體涉及一種粉末涂覆裝置。德國的scaps gmbh公司是eos公司在定位裝置方面的供應(yīng)商,二者的合作申請(qǐng)是申請(qǐng)?zhí)枮閐e19961008632的德國專利申請(qǐng),具體涉及一種激光定位裝置。eos公司與其主要材料供應(yīng)商贏創(chuàng)(evonik)集團(tuán)的合作申請(qǐng)是1998年9月15日提出的歐洲專利申請(qǐng)ep19980117450,要求保護(hù)一種塑料粉末材料。
  eos公司與其材料供應(yīng)商法國阿科瑪(arkema)公司的合作申請(qǐng)是2009年4月8日提出的德國專利申請(qǐng)de200910016881和2010年4月1日提出的中國專利申請(qǐng)cn201080001890,二者均要求保護(hù)一種用于三維制造工藝的粉末材料。





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